华南财经网讯：国内半导体炉管设备领域的新锐力量——杭州欧诺半导体设备有限公司（以下简称“欧诺半导体”）近日宣布完成新一轮融资。本轮融资由浙商创投领投，大璞资本担任独家财务顾问。作为一家专注于半导体高端炉管设备研发与制造的高科技企业，欧诺半导体自成立以来始终聚焦芯片制造前道、中道及先进封装环节中的关键工艺设备，产品覆盖常压热扩散炉、低压气相化学沉积炉及原子层沉积炉等核心装备。在全球半导体产业链自主可控的大背景下，炉管设备因其工艺覆盖广、技术壁垒高、长期被海外巨头垄断而成为“卡脖子”环节之一，而欧诺半导体凭借扎实的技术积累与快速的商业化落地能力，正在这一细分赛道中实现重要突破。
本轮融资的顺利完成，充分体现了产业资本对欧诺半导体技术路线、产品性能及团队执行力的高度认可。领投方浙商创投作为国内知名的创业投资机构，长期深耕半导体与硬科技领域，其对欧诺半导体的重注入局，反映出高端炉管设备国产替代正迎来关键窗口期。大璞资本担任本轮独家财务顾问，为融资的高效推进提供了专业支持。欧诺半导体核心团队来自中芯国际、TEL、Intel等全球龙头企业，平均从业经验超过12年，在设备研发、工艺调试与量产交付方面具备深厚积淀。公司成立不到三年，已成功进入多家国内一线芯片制造企业及科研机构供应链，8英寸及12英寸LPCVD设备均已实现出货并进入客户端量产阶段，成为国内少数在低压化学气相沉积领域实现工艺对标、可替代海外设备的本土企业之一。本轮资金将主要用于产品研发迭代、产能扩充及市场拓展，进一步夯实其在半导体炉管设备领域的领先地位。
展望未来，随着国内成熟制程产能持续扩张以及先进制程与先进封装对炉管工艺要求的不断提升，低压炉及原子层沉积炉等高壁垒设备正迎来高速增长期。当前全球炉管设备市场仍由东京电子、KE等海外厂商占据近90%份额，国产化率尤其在LPCVD及ALD领域不足5%，替代空间广阔。欧诺半导体已前瞻布局ALD炉管技术方向，依托公司在无金属腔体设计、全温域精准控温、高精度气体输送等核心模块的成熟积累，有望在下一代原子层沉积设备领域实现进一步突破。公司计划持续深化与国内头部晶圆厂及科研机构的协同创新，加速推进更高端工艺设备的验证与量产，助力中国半导体产业链在核心装备环节构建更加自主可控的供应体系。资本的持续赋能与自身技术、产品、商业化能力的稳步提升，将共同驱动欧诺半导体在高端炉管设备这一黄金赛道上加速前行，为中国芯片制造产业链的安全与韧性贡献关键力量。
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